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  • 光折变晶体
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    Optogama 供应 BSO、Fe:LiNbO₃以及 BGO 晶体,这类晶体是光折变效应相关应用必不可少的材料。光折变效应是指:光强的空间分布会引起材料局部折射率发生改变的一种物理现象。
    当相干光在光折变材料内部发生干涉,就会形成空间分布变化的光照图样,进而产生该效应。利用该效应可以存储可擦写的临时全息图,也就是常说的全息光存储;该效应还可用于制作相位共轭镜,或是实现光学空间孤子。

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产品详情

Optogama 供应 BSO、Fe:LiNbO₃以及 BGO 晶体,这类晶体是光折变效应相关应用必不可少的材料。光折变效应是指:光强的空间分布会引起材料局部折射率发生改变的一种物理现象。
当相干光在光折变材料内部发生干涉,就会形成空间分布变化的光照图样,进而产生该效应。利用该效应可以存储可擦写的临时全息图,也就是常说的全息光存储;该效应还可用于制作相位共轭镜,或是实现光学空间孤子。


光折变晶体

Optogama 供应 BSO、Fe:LiNbO₃以及 BGO 晶体,这类晶体是光折变效应相关应用必不可少的材料。

光折变效应是指:光强的空间分布会引起材料局部折射率发生改变的一种物理现象。 当相干光在光折变材料内部发生干涉,就会形成空间分布变化的光照图样,进而产生该效应。利用该效应可以存储可擦写的临时全息图,也就是常说的全息光存储;该效应还可用于制作相位共轭镜,或是实现光学空间孤子。

BSO 硅酸铋晶体

硅酸铋晶体 Bi12SiO20(BSO)是高性能光导材料,暗电导率低,可形成很大的光致空间电荷场。 优异的光电导与电光特性,使 BSO 晶体适用于多种应用:空间光调制器、光开关、相位共轭混频器。 BSO 晶体采用改良直拉法生长,可提供最大 3 英寸通光口径;可按需提供 ITO 导电膜镀膜版本。


标准晶体尺寸

Face(mm):5x5,10x10,20x20,25x25,30x30

长(mm):1.1,1.4,5


主要特点

■ 电光系数高 r41=5 pm/V

■ 相位共轭效率高 

■ 可提供大尺寸元件,最大可达 3 英寸晶圆 

■ 支持按需定制


应用实例

■ 空间光调制器 

■ 光开关 

■ 普克尔斯读出光存储器(PROM)应用 

■ 光波导

BGO 锗酸铋晶体

锗酸铋晶体Bi12GeO20 (BGO)是高性能光电导材料,暗电导率低,可形成高强度光致空间电荷场。 其优异的光电导与电光特性,让 BGO 晶体适用于多种场景:空间光调制器、光开关、相位共轭混频器。 BGO 晶体采用改良直拉法生长,可提供最大 3 英寸口径元件;可按需选配 ITO 导电膜镀膜。


标准晶体尺寸

Face(mm):20x20,25x25,30x30

长(mm):1.1,1.4


主要特点

■ 电光系数高r41=3.5pm/V

■ 暗电导率低 

■ 可提供大尺寸元件或晶圆,最大可达 3 英寸 

■ 支持按需定制


应用实例

■ 空间光调制器 

■ 光开关 

■ 光学相关器

Fe:LiNbO₃ 

铁掺杂铌酸锂晶体

铁掺杂铌酸锂晶体 Fe:LiNbO3 (Fe:LN)是一种性能优异的光折变材料,具备高光折变灵敏度、高电光系数、高衍射效率以及良好的化学‑力学性能。

Fe:LiNbO₃ 晶体采用直拉法(Czochralsky,即 Czochralski)生长,可制备大尺寸晶体。可供选择的掺杂剂种类与掺杂浓度范围宽泛,能够针对特定应用需求调节材料性能。除此之外,Fe:LiNbO₃ 晶体加工处理简便、成本低廉,适合规模化量产。


标准晶体尺寸

Face(mm):10x10,20x20

长(mm):1,5




主要特点

■ 电光系数高 r41=5 pm/V

■ 相位共轭效率高 

■ 可提供大尺寸元件或晶圆,最大可达 3 英寸 

■ 支持按需定制


应用实例

■ 空间光调制器 

■ 光开关 

■ 全息记录 

■ 光波导

关于 Optogama

Optogama公司坐落于立陶宛维尔纽斯,拥有超过20年激光与光子学行业从业经验;70%以上员工具备激光物理专业背景。公司核心优势:光学元件、光束传输器件的定制化设计与生产;沟通响应高效,即使定制项目也能实现较短交付周期;产品生产与质量管控遵循ISO9001标准化体系;具备优异的性价比。Optogama可承接从概念设计、原型开发、光学仿真,到光学加工镀膜、计量检测的全流程项目。

Optogama 保障高品质镀膜,提供合规性能测试,可为激光与成像应用开发制造定制光学元件,兼顾镀膜性能与成本优势。测试能力覆盖190 nm‑12000 nm全光谱测量、吸收散射测试、波前误差测试、群延迟色散GDD测试,多循环温湿度耐久可靠性测试。


Optogama用于完整的镀膜设备,可提供的镀膜工艺:

  • 离子束溅射(IBS)

  • 电子束蒸发(E‑beam evaporation)

  • 离子辅助电子束蒸发(IAD)

  • 磁控溅射(MS)

  • 原子层沉积(ALD)

多种镀膜工艺既可以大批量量产标准化产品,也可以灵活为科研原型件提供定制加工,可制备膜系包括:

  • 增透膜AR

  • 高反反射膜

  • 超快激光专用镀膜

  • 红外镀膜

  • 金属膜

  • 分光膜

  • 二向色滤光膜

  • ITO导电膜

手册较大欢迎联系获取