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光声量测系统 Echo™

光声膜厚测量系统

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<p><span style="font-family: Microsoft YaHei; font-size: 14px;">Echo™是一套功能完备的<span style="font-family: Microsoft YaHei; font-size: 14px; color: rgb(0, 0, 255);">在线金属薄膜量测设备</span>，主要用于先进逻辑芯片、存储器、先进封装以及特种半导体器件的<span style="font-family: Microsoft YaHei; font-size: 14px; color: rgb(0, 0, 255);">单层与多层金属薄膜测量</span>。设备采用创新光学设计，单台平台即可实现<span style="font-family: Microsoft YaHei; font-size: 14px; color: rgb(0, 0, 255);">50 埃‑35 微米</span>的超宽薄膜厚度测量动态范围，还可扩展完成高深宽比 3D NAND 先进结构的测量。专家应用系统软件 EASy™支持用户自定义算法开发，能够对<span style="font-family: Microsoft YaHei; font-size: 14px; color: rgb(0, 0, 255);">复杂多层薄膜叠层</span>进行建模分析。</span></p>

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