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  • 量子标准器件—高Q值氮化硅薄膜

  • 量子标准器件—高Q值氮化硅薄膜

    Norcada 公司可定制组分与应力参数的氮化硅薄膜器件，主要面向科研人员，用于在极低温环境下，借助具备高机械品质因子（高 Q 值）的氮化硅（Si₃N₄）薄膜开展腔光力学系统量子特性相关研究。
    NX 系列氮化硅薄膜窗口制备在200 μm 厚度的硅支撑框之上；QX 系列采用500 μm 厚硅支撑框。全部薄膜窗口均采用1.0 GPa 高拉应力化学计量比氮化硅薄膜制作。

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产品详情

Norcada 公司可定制组分与应力参数的氮化硅薄膜器件，主要面向科研人员，用于在极低温环境下，借助具备高机械品质因子（高 Q 值）的氮化硅（Si₃N₄）薄膜开展腔光力学系统量子特性相关研究。
NX 系列氮化硅薄膜窗口制备在200 μm 厚度的硅支撑框之上；QX 系列采用500 μm 厚硅支撑框。全部薄膜窗口均采用1.0 GPa 高拉应力化学计量比氮化硅薄膜制作。


量子标准器件—高Q值氮化硅薄膜

Norcada 公司可定制组分与应力参数的氮化硅薄膜器件，主要面向科研人员，用于在极低温环境下，借助具备高机械品质因子（高 Q 值）的氮化硅（Si₃N₄）薄膜开展腔光力学系统量子特性相关研究。 NX 系列氮化硅薄膜窗口制备在200 μm 厚度的硅支撑框之上；QX 系列采用500 μm 厚硅支撑框。全部薄膜窗口均采用1.0 GPa 高拉应力化学计量比氮化硅薄膜制作。

高Q值氮化硅Si₃N₄薄膜


5×5 mm、200 μm 厚硅支撑框

5×5 mm、500 μm 厚硅支撑框

10×10 mm、200 μm 厚硅支撑框

10×10 mm、500 μm 厚硅支撑框

特种高Q值氮化硅Si₃N₄薄膜器件


1000 μm 厚硅支撑框