
极紫外反射镜EUV Mirrors | 适配 13.5 nm (标准款)光学性能:R > 65 % @ 13.5 nm, λ = (13.50 ± 0.05) nm, FWHM > 500 pm镜面规格:直径 1 英寸,厚度 6.35 mm;平面 / 球面凹面;面形精度 λ/20 基底材料:熔融石英 | 适配 13.5 nm (定制款)光学性能:可按需求优化反射率、入射角、工作带宽 镜面规格:最大口径 650 mm;平面、球面凹 / 凸、柱面、环面、椭球面、抛物面;面形精度最高 λ/50 基底材料:熔融石英、单晶硅、超低膨胀玻璃(ULE)、金属基底 |
软X射线反射镜Soft X-Ray Mirrors | 全部为定制产品 波段范围:1 nm~13.5 nm(1 keV~100 eV) 光学性能:可按需求优化反射率、入射角、工作带宽 镜面规格:最大口径 650 mm;平面、球面凹 / 凸、柱面、环面、椭球面、抛物面;面形精度最高 λ/50 基底材料:熔融石英、单晶硅、超低膨胀玻璃(ULE)、金属基底 | 典型应用
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XUV 反射镜XUV Mirrors | 全部为定制产品波段范围:13.5 nm~100 nm(10 eV~100 eV) 光学性能:可按需求优化反射率、入射角、工作带宽 镜面规格:最大口径 650 mm;平面、球面凹 / 凸、柱面、环面、椭球面、抛物面;面形精度最高 λ/50 基底材料:熔融石英、单晶硅、超低膨胀玻璃(ULE)、金属基底 | 典型应用
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