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  • 薄膜铌酸锂光子集成芯片 TFLN PIC
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    德国Fraunhofer HHI 薄膜铌酸锂光子集成芯片 TFLN PIC,应用:

    电信骨干网、数据中心光互联

    光学传感

    量子计算


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产品详情

德国Fraunhofer HHI 薄膜铌酸锂光子集成芯片 TFLN PIC,应用:

电信骨干网、数据中心光互联

光学传感

量子计算



面向通信与量子计算的薄膜铌酸锂光子集成芯片 TFLN PIC

技术背景

薄膜铌酸锂光子集成芯片是下一代电信、数据中心光链路及量子应用的核心研究方向。其透光光谱覆盖 450–4500nm 超宽区间,同样可支撑各类传感场景落地。芯片内置行波结构高速相位调制器,兼具高射频带宽与低半波电压(Vπ)特性。平台配套标准化功能单元,包含热光相位移相器、片上电阻、光纤模斑转换器等,可按需定制专用光子集成芯片(PIC)。 所有光子芯片均由弗劳恩霍夫海因里希 - 赫兹研究所(Fraunhofer HHI)自有、通过 ISO9001 认证的晶圆工艺产线完成制备。

标准化基础功能单元

  • 高速相位调制器

  • 热光相位移相器

  • 片上集成电阻

  • 光纤模斑转换器

  • 低损耗光波导

  • 多模干涉耦合器(MMI)

  • 定向耦合器

应用领域

  1. 电信骨干网、数据中心光互联

  2. 光学传感

  3. 量子计算